玻璃的离子镀膜法

新闻发布时间：2013-10-10新闻浏览次数：2715新闻作者：锦泰特种玻璃

玻璃的离子镀膜法实质上是将蒸发法与溅射法相结合的方法。其与蒸发法的相似处在于成膜物质作为蒸发源在热源的作用下蒸发逸出。与溅射法的 相似处在于成膜物质与玻璃基体之间存在着强大当场，使气体发生辉光放电而产生等离子。与二者的不同之处在于用等离子体撞击的是已经蒸发出的成膜物质原子或分子，使其发生电离，从而使成膜物质以离子状态加速转移到玻璃基体上。
在一密闭的充有惰性气体（如氩气）的真空镀膜室中，成膜物质蒸发源放在下部的坩埚中，用电阻，电子枪或高频加热，使成膜物质蒸发。蒸发源坩埚装在下部的阳极上，而玻璃片装在镀膜室上部的阴极上。镀膜室真空度为10-2～10-3Pa，阴极负电压为-1000～-5000V。镀膜开始前为了清洁玻璃表面，增强膜的附着力，先在阴极通负电压，使电离的氩气体等离子轰击玻璃表面，进行溅射清洗，然后再镀膜。镀膜时使成膜物质原子蒸发进入气体等离子场，并受到等离子体撞击而电离成离子状态。此成膜物质离子在电场中被加速。根据所加电压的不同，离子加速的能量可达1～1000eV，然后沉积在安装于阴极的玻璃基体上，形成薄膜。
同阴极溅射法一样，离子镀膜法可以镀各种膜。金属膜如，金、银、铜等。氧化物膜如二氧化钛膜，二氧化硅膜等。还有氟化物膜，硫化物膜，氮化物膜，硼化物膜及其混合物膜。此法也可镀单层膜和多层膜。其独特的优点如下：
(a) 等离子轰击清洁玻璃表面，使膜与玻璃的附着力增强，膜层不易脱落；
(b) 膜层的致密度高，甚至与成膜物质本身的密度相同；
(c) 绕镀性能好。玻璃制品背面也能镀上。对形状复杂的玻璃制品，能产生相对均匀的镀层。适合于玻璃工艺品。而阴极溅射法则一般适宜于平板玻璃；
(d) 成膜物质蒸发电离后被电场加速，沉积速度快，镀膜效率高。沉积速度可达1～50µm/min。而一般阴极溅射法速度只有0.01～1µm/min。